Iacona, F., Ceriola, G. and La Via, F. (2001) Structural properties of SiO2 films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition. Materials Science in Semiconductor Processing, 4, 43-46.

化学气相沉积法制备MoS₂的研究进展
Research Progress on MoS₂ Prepared by Chemical Vapor Deposition

王 洁, 陈秋月, 张永平    科研立项经费支持

材料化学前沿Vol.5 No.1, 全文下载: PDF HTML XML DOI:10.12677/AMC.2017.51001, January 22 2017

硫化钨薄膜的制备及光电特性研究
Preparation and Photoelectric Properties of Tungsten Disulfide (WS2) Films

许 珂, 丁 馨, 徐 铖, 朱 琳, 桑雨欣, 马锡英   

纳米技术Vol.9 No.3, 全文下载: PDF HTML XML DOI:10.12677/NAT.2019.93012, August 21 2019

可见光光氧化还原催化C-F键断裂的研究进展
Recent Advances in C-F Bond Cleavage Enabled by Visible Light Photoredox Catalysis

张菲杰   

有机化学研究Vol.12 No.1, 全文下载: PDF HTML XML DOI:10.12677/jocr.2024.121011, March 29 2024

二维MoSe₂连续薄膜的化学气相沉积制备和退火研究
Preparation and Annealing of Two-Dimensional MoSe₂ Continuous Films by Chemical Vapor Deposition

石晓静, 邓加军, 申媛媛, 王文杰, 卢芳超, 高 杰, 李若楠, 丁迅雷    国家自然科学基金支持

材料科学Vol.11 No.12, 全文下载: PDF HTML XML DOI:10.12677/MS.2021.1112143, December 13 2021

极板间距对DLC薄膜拉曼光谱的影响
The Effect of Plate Spacing on the DLC Films’ Raman Spectroscopy

任 瑛, 王明超    科研立项经费支持

材料科学Vol.7 No.3, 全文下载: PDF HTML XML DOI:10.12677/MS.2017.73052, May 27 2017

基于F-G-M Copula的一个二元概率模型
A Bivariate Probability Model Based on the F-G-M Copula

高 峰   

统计学与应用Vol.2 No.3, 全文下载: PDF HTML DOI:10.12677/SA.2013.23008, September 26 2013