负性黑色光刻胶光刻工艺参数的优化研究
Research on Optimization of Photolithography Process Parameters for Negative Black Photoresist
王 岩,杨 亮：厦门理工学院福建省功能材料及应用重点实验室，福建 厦门；李杰欣：厦门市云天半导体科技有限公司，福建 厦门
版权 © 2017 王 岩, 杨 亮, 李杰欣。本期刊文章已获得知识共享署名国际组织(Creative Commons Attribution International License)的认证许可。您可以复制、发行、展览、表演、放映、广播或通过信息网络传播本作品；您必须按照作者或者许可人指定的方式对作品进行署名。