极紫外光刻掩模缺陷暗场检测系统优化设计Optimization Design of Dark Field Detection System for Mask Defects of Extreme Ultraviolet Lithography
刘馨泽, 匡尚奇, 刁金玉, 林景全 下载量: 406 浏览量: 1,533 科研立项经费支持
应用物理 Vol.11 No.3, March 16 2021, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/APP.2021.113017 被引量
激光锡等离子体极紫外光谱的优化研究Research on Optimization of Extreme Ultraviolet Spectrum from Laser-Produced Tin Plasma
王海建, 窦银萍, 李镇广, 谢 卓, 宋晓伟, 林景全 下载量: 792 浏览量: 3,782 科研立项经费支持
应用物理 Vol.10 No.1, January 14 2020, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/APP.2020.101008 被引量
激光辅助放电等离子体极紫外光源研究进展 Research Progress of Laser Assisted Discharge Produce Plasma Extreme Ultraviolet Source
吴家志, 谢 卓, 窦银萍, 林景全 下载量: 1,162 浏览量: 2,034
应用物理 Vol.9 No.1, January 7 2019, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/APP.2019.91001 被引量
SiC纳米线紫外光探测器光电性能的研究Fabrication and Properties of Ultraviolet Photo-Detector Based on SiC Nanowires
于晓燕, 彭刚, 李公义, 何焰蓝, 周应秋 下载量: 3,656 浏览量: 12,953 国家自然科学基金支持
纳米技术 Vol.2 No.2, May 15 2012, PDF, , DOI:10.12677/nat.2012.22004 被引量
基于图像的离线的光刻工艺稳定性控制方法Offline Lithography Process Stability Control Method Based on Image
许博闻 下载量: 196 浏览量: 320
图像与信号处理 Vol.12 No.3, July 13 2023, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/JISP.2023.123025 被引量
纳米压印技术制备硅基有序一维、二维纳米结构Fabrication of Si-Based 1D,2D Ordered Nano Structure by Nanoimprint Lithography
李卫 下载量: 3,878 浏览量: 11,807
现代物理 Vol.1 No.3, November 25 2011, PDF, , DOI:10.12677/mp.2011.13010 被引量
太阳紫外辐照度影响东亚冬季气候的研究进展Advances of Impact of Solar Ultraviolet Radiation on the Winter Climate of East Asia
钟 琦, 李跃凤, 赵 亮, 董 仕, 胡宜昌 下载量: 1,512 浏览量: 2,997 国家自然科学基金支持
地球科学前沿 Vol.8 No.2, April 28 2018, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/AG.2018.82045 被引量
毛细管放电氩等离子体的电离价研究Study on Ionized Degree of Ar Plasma in Capillary Discharge
张兴强, 王骐 下载量: 3,586 浏览量: 10,084 国家自然科学基金支持
现代物理 Vol.3 No.1, February 21 2013, PDF, , DOI:10.12677/MP.2013.31005 被引量
紫外激光器应用进展Application Progress of Ultraviolet Laser
苏 畅, 马宇航, 丁可可, 韦 龙, 李再金, 赵志斌, 曾丽娜, 李 林, 乔忠良, 陈 浩, 曲 轶 下载量: 682 浏览量: 1,659 国家自然科学基金支持
光电子 Vol.11 No.1, March 12 2021, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/OE.2021.111004 被引量
负性黑色光刻胶光刻工艺参数的优化研究Research on Optimization of Photolithography Process Parameters for Negative Black Photoresist
王 岩, 李杰欣, 杨 亮 下载量: 420 浏览量: 1,304 国家自然科学基金支持
材料科学 Vol.12 No.4, April 29 2022, PDF, HTML, XML DOI:10.12677/MS.2022.124032 被引量