源极跟随器离子注入工艺对RTS噪声影响分析Analysis of the Influence of Source Follower Ion Implantation on RTS Noise
王 玮 下载量: 68 浏览量: 104
光电子 Vol.14 No.2, June 18 2024, PDF, , XML DOI:10.12677/oe.2024.142003 被引量