IaE  >> Vol. 9 No. 3 (September 2021)

仪器与设备
Instrumentation and Equipments
Vol.9 No.3(2021), Paper ID 44258, 7 pages
DOI:10.12677/IaE.2021.93009

MOCVD工艺腔体PM后调机率的改善方法
Improvement Method of Adjustment Rate on MOCVD Process Chamber after PM

朱 亮:上海华力微电子有限公司,上海

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朱亮. MOCVD工艺腔体PM后调机率的改善方法[J]. 仪器与设备, 2021, 9(3): 55-62. https://doi.org/10.12677/IaE.2021.93009